可見光衰減片應用領域：醫療設備光探測器、臨床生化分析設備、化學檢測設備、各種光學儀器設備、電子學顯像系統、紫外測量儀器、各種激光器、光學數碼照相機、攝像機、安防監控攝像機、光通訊衰減濾波器。
使用注意事項：
1.使用時請戴好手指套，不要用手指直接觸碰可見光衰減片表面，以免殘留的手指影響中性密度濾光片通光效果。
2.如可見光衰減片表面臟時，可用無塵沾上酒精擦拭鏡片表面。不可用表面很粗糙的布或紙或沾水擦拭，否則會損壞可見光衰減片表面。
3.檢查光路各調整光軸時，請一定做好相應的防護。
4.如果用了可見光衰減片后系統效果還是不好，請把詳細光路系統告訴我們，我們來幫您分析原因，讓您少走很多冤枉路。（當然，我們會對客戶的方案保密，盡可放心！和客戶一起成長是我們不變的宗旨）。
可見光衰減片的方法有很多種，包括電鍍、化學鍍，真空蒸發鍍以及磁控 濺射鍍膜法。
工業化生產中人們既關心產品的綜合性能又要考慮制備成本，在 以上制備方法中化學鍍膜工藝流程簡單，成本低廉，且操作簡便，因此受到人 們的重視，但該方法會產生廢液，污染環境；磁控濺射鍍膜工藝技術先進， 制備的薄膜具有質量保證，是目前廣泛應用的一種制備手段，相比于其他方 法，磁控濺射鍍膜具有成膜速率高，基片溫度低，膜粘附性好等鍍膜優點，而 且對環境無污染，適合低碳要求，是一種綠色制造技術，是最有發展前景的表 面涂覆技術之一 。
從市場需求的角度看，滿足光衰減器小型集成化、系列 化的發展，但其使用設備儀器復雜，靶材尺寸固定，原材料需要加工，成本相 對較高 。
基于產品性價比的考慮，有必要對化學鍍和磁控濺射鍍這兩種典 型鍍膜方法進行綜合分析和對比，進而研究工藝參數對 Ni/Si O 2 光衰減片的表 面形貌、晶體結構、三維結構、粗糙度以及對光衰減率的影響，通過調節工藝 參數來獲得具有不同光衰減率的光衰減片，從而滿足人們對不同膜系功能的需 求。
